电子半导体工业电子加速，光电器件，电子材料，射线管，晶体，继电器，激光，离子注入装置，离子蚀刻机，化学气相沉积设备，物理气相沉积装置，分子束外延装置，集成电路封装，像其他半导体应用。分别蒸发，溅射，PECVD，真空干蚀刻，真空抽吸，测试设备，漫游器，自动真空清洁并在真空（高真空）所需的贴合工序等;室内真空（低真空）;处理真空（低真空）的真空泵以及回流的部分在真空空间是零，为了从污染保护工件。技术工程师队共享电子半导体行业应用。
一，根据在真空中的分类
用于生产真空（高真空）
1，主要由高真空采用真空，以减少工作空间中的空气，保持清洁的工作空间内产生，主要的类型中使用的真空泵包括干（干式螺杆真空泵，爪泵）和它们的分子泵机组。
技术真空（粗真空）
2，主要技术真空负压或抽吸，用于保持工件搬运，螺杆泵，爪式泵，水泵和干泵，旋转叶片泵，微螺杆泵。
真空清洁（粗加工）
3，大气压力和真空吸力以清除或输送液体或颗粒，这样的应用主要是水环泵和多级离心式风扇之间的清洁主要区别。
二，根据真空泵的类型
早些时候，油泵真空泵在半导体工业型，高真空的主要特征是常用的，以满足新的产业，旋转式泵之间和往复泵为主要代表的特殊要求。因为他们不能泵水蒸汽和冷凝的气体和腐蚀气体容易限制，而是用真空泵，以提高生产技术的发展，有利于清洗的;安全;穿;低成本;维修方便;性能稳定;振动小，干式真空泵的低噪声的优点，半导体工业，以满足工艺要求。
1，圆裂片，爪式，模块化（罗茨+爪式），螺杆。这些类型广泛地被不同的制造商使用。其中，所述瓣型，和模块化爪（爪+根）被称为多级泵。操作方式是基本相同的，则重复气体的压缩来创建使用多级真空室中的真空。
三，根据真空系统
真空系统是由真空泵套，PLC的过程控制系统，圆柱体，真空管线，真空阀，过滤器组件的外部，和其他组件的真空系统。该系统被广泛应用于电子半导体工业中，光学光模块，机械加工等行业。
四，半导体工业真空系统
电子半导体行业需要真空系统可分为三个层次。
1，在吸力下，空气或空气清洁条件仅含有排出水蒸气一点。
2，在温和条件下的排气，将反应气体的其它提取方法，没有固体颗粒。
3，在吸力下的苛刻条件，泵送化学反应物（毒性和致癌甚至）和固体颗粒。
五，半导体真空泵的应用安全事项
1，真空泵，以防止过热：
这是比较容易理解，在半导体中的真空泵，更有害气体的应用，并且两个干式真空泵或机械泵密封，泵室温度过高，炸药和在高温下的有毒气体将存在危险。
2，注意氧在真空中的浓度：
空气中的氧燃烧和爆炸的危险可能发生在高浓度。在某些情况下，应该注意的是氧气的浓度，稀释的惰性气体，以防止浓度过高;一个机械泵密封可能需要一些惰性的，与氧气，真空泵油相容，并且更换油过滤器和油的假设。
3，一个半导体泵有效淡化的有害气体的浓度：
半导体容易产生上述的炸药，有毒有害气体。因此，当半导体真空应用到提取这些媒体必须防止一些不可控它们在排气过程或真空泵反应。如的SiH4，PH3，砷化氢，B 2 H 6等物质，当与空气或氧气接触可能引起爆炸或燃烧;氢燃烧可以发生在空气的混合比和温度达到一定的水平。的压力的量取决于材料和环境温度关系。萃取介质期间用惰性气体，如氮气。因此这些半导体泵，即气体被压缩之前的时间条件下稀释到一个安全范围内。
4，真空泵和其它附件，过滤器，管，避免过压的定期清洗：
真空半导体应用期间，通过用真空泵将反应室中的萃取介质中，成分可以作为泵口形成SiH4和O2的SiO 2，四氯化钛的水解将形成HCI是极其复杂的，例如;假设油封机械泵，这些气态物种可以和抗油泵的发生。这些假设改变形式的颗粒，或可冷凝物的腐蚀性介质，或真空泵可能堵塞管道系统，影响真空泵的性能，从而导致增加的压力或超压，稍微上述危险更大。因此，需要及时清理，并必要时设置过滤设备。