发布时间:
2020
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真空系统应用于半导体工业还是比较多的。接下来，介绍我们就来介绍真空系统的内容。 真空系统简介 通过真空系统的设计，在单个生产机器上，更多的单个泵被几个更大的真空泵代替。自动变频控制系统通过储气罐的主支管配置并连接到生产机器上。真空供应根据生产要求全自动，节能、低成本、维护方便、性能稳定。员工工作区域的噪音水平大大降低，以满足半导体行业的技术要求。 真空泵应用部分 1.生产用真空主要是通过高真空减少工作空间的空气，保持工作空间的清洁。所用真空泵的主要类型包括干式泵(干式螺旋真空泵、爪式泵)、分子泵及其装置。生产用真空设备数量多，功率小。 2.清洁真空主要利用负压和大气压之间的差异来清洁或输送液体或颗粒。对于这些应用，主要使用水环泵和多级离心风扇。由于真空度低，通常采用多级离心风机，真空源是其系统的一部分。 3.工艺真空主要采用工件搬运负压吸附或夹紧。螺杆泵、爪式泵、水环泵、旋转叶片泵和微油螺杆泵等干式泵都是过程真空中常见的真空设备。 真空系统的组成 真空泵+控制系统+储气罐+管道安装 半导体真空泵应用安全事项： 1、防止真空泵温度过高： 真空泵温度过高会影响真空度和排气量，对生产有直接影响。在半导体在真空泵的应用中，有害气体比较多，而无论是干式真空泵还是油封机械泵，泵腔内温度过高，高温下易燃易爆及有毒气体就会容易发生危险。 2、半导体真空泵有效稀释有害气体的浓度： 半导体易产生前面所说的易燃易爆、有毒的有害气体。所以半导体真空泵应用中在抽取这些介质时就必须防止它们在真空泵内或者排气过程中发生一些不可控的反应。 比如SiH4、PH3、AsH3、B2H6等物质，在与空气或氧接触的时候，会引起燃烧甚至爆炸;氢气在空气中的混合比例达到一定程度与温度时也会发生燃烧。这些都取决于该物质的量以及与环境的压力、温度的关系。因此半导体真空泵在抽取这些介质时，需要用氮...